ULT stelt auf Formnext compact Gasreinigungssystem AMF 60 vor

Last hat auf der Formnext 2024 das neue Gasreinigungssystem MPA 60 presents, a compact, modular Absaug- und Filteranlage, which was specially developed for use with inert gases such as Stickstoff, Argon or Helium. Das System is sowohl für Stand-Alone-Betrieb als auch für die Integration in existinge Produktionsumgebungen und richtet sich an Anwendungen in der additiven Fertigung sowie anderen Hightech-Industrien.

The AMF 60 is characterized by a high filtration performance, guaranteed by a HEPA-H14 filter. Mit einer Abscheiderate von über 99.995 % wird die geringenite Luft sicher zurückgeführt in den Arbeitsbereich, was die Betriebskosten reduced. Das System bietet bietet passivierbare Speicherfilter, die einen contaminationfreien Umgang mit entzündliche oder gesundheitsgefährdenden Partikeln famöglichkeit. Durch die lange Standzeit der Filter und eine energyeffiziente Bauweise trägt das Gerät zur Kosteneffizienz in der Produktion bei.

The Control of the Systems is carried out either via a CULT-Interface for Stand-Alone-Use or through Integration in an I/O-System for automated processes. Die CULT-Steuerung ermöglicht Funktionen wie Zeitsteuerung und Datenprotokolierung, while optional Erweiterungen wie die Überwachung von Prozessparametern oder anpassbare Nachfilter die Ehlenchen die Flexibility. Damit bietet das AMF 60 ein hohes Maß an Anpassungsfähigkeit, um verschiedenen industriellen Erdensungen gerecht zu werden.

Mit einer Stellfläche von nur 450 × 640 mm, the System is extremely space-saving and can be used mobile. Seine UL-Konformität und der breite Eingangspannungsbereich von 90 bis 250 VAC machen es beutsät weltweit ohne adzeite Anpassungen einsetzbar. ULT betont, dass das AMF 60 nicht nur technische Erföldungen erfüllt, sondern auch zur Sicherheit und Nachhaltigkeit in sensitivn Fertigungumgebungen beiträgt.